歡迎訪問(wèn)揚(yáng)州欣達(dá)電子有限公司網(wǎng)站! 關(guān)于我們 聯(lián)系我們

專注于薄膜開(kāi)關(guān),薄膜面板等研發(fā)與生產(chǎn)

安全省心,有效控制成本

img

咨詢電話:

0514-86859177

img

咨詢電話:

13805251384

PRODUCT CENTER
產(chǎn)品中心
行業(yè)資訊
企業(yè)動(dòng)態(tài)
技術(shù)文章
咨詢熱線

0514-86859177

技術(shù)文章

薄膜制備方法

   按成膜機(jī)理分類,薄膜的制備方法可大致分為物理方法和化學(xué)方法兩大類。

   物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)是利用某種物理過(guò)程,如物質(zhì)的熱蒸發(fā)或在受到粒子束轟擊時(shí)物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象,實(shí)現(xiàn)物質(zhì)從原物質(zhì)到薄膜的可控的原子轉(zhuǎn)移過(guò)程。物理氣相沉積的主要特點(diǎn)是:

   (1)需要使用固態(tài)的或者熔化態(tài)的物質(zhì)作為沉積過(guò)程的原物質(zhì);